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Transparente Si-Dünnschichten

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Transparente Si-Dünnschichten

Poröse transparente Si-Dünnschichten                                                                                                 

 

 

ID S1011-01: Gesucht wird eine Technologie, mit der es möglich ist, poröse transparente Si-Dünnschichten herzustellen. Die Schichten sollten u. a. folgende Eigenschaften aufweisen: Dicke: 100 nm bis 1000 nm, Substrat: Glas, Porosität: > 20%.

 

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